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標案歷史
多腔體真空濺鍍與乾蝕刻系統
標案名稱
多腔體真空濺鍍與乾蝕刻系統
招標金額
44,880,000
招標日期
2024-11-01
決標日期
2024-11-21
標案案號
113000752
分類
財物類
形式
公開招標公告
結果
招標公告
機關資訊
中央研究院
得標廠商
投標廠商
相關關鍵字
多腔
、
真空
、
中央
、
研究
、
研究院
、
中央研究院