開放標案
open navigation menu
每日標案
相關單位
標案統計
關於本站
標案歷史
大面積高真空鍍膜設備
標案名稱
大面積高真空鍍膜設備
招標金額
14,500,000
招標日期
2024-09-02
決標日期
2024-09-18
標案案號
113000331
分類
財物類
形式
公開招標公告
結果
決標
招標公告
決標公告
大面積高真空鍍膜設備
標案名稱
大面積高真空鍍膜設備
招標金額
14,500,000
招標日期
2024-07-24
決標日期
2024-09-18
標案案號
113000331
分類
財物類
形式
公開招標公告
結果
決標
招標公告
決標公告
機關資訊
中央研究院
得標廠商
高敦科技股份有限公司
機關代號：
89527512
地址：
235新北市中和區中正路738號3樓之8
電話：
(02)82261488
字號：
投標廠商
公司登記 - 高敦科技股份有限公司
相關關鍵字
真空
、
中央
、
研究
、
研究院
、
中央研究院
、
科技
、
股份
、
科技股
、
科技股份
、
有限
、
公司
、
有限公司